shinkuu真空蒸鍍設備的特點

shinkuu真空蒸鍍設備的特點

真空蒸發系統是在真空氣氛中使材料蒸發、蒸發，在樣品上形成薄膜的裝置。

通常使用渦輪分子泵在高真空下沉積薄膜，并且可以制造沒有雜質的薄膜。

真空設備用蒸鍍設備可以通過順序程序控制操作輕松創建高真空環境，具有緊湊且價格低廉的產品陣容，非常適合研究和開發。從大氣壓到 10x10 -4 Pa 區域的到達時間約為 5 分鐘。我們將通過轉換傳統的舊系統來加快研發速度。

VE-2013，桌面大小的緊湊型高真空氣相沉積系統

我們提供具有緊湊型 TMP + RP 排氣系統且價格低廉的清潔高真空氣相沉積系統。
取消復雜的排氣操作，僅通過觸摸面板開關的 ON/OFF 實現全自動控制。
通過結合小型渦輪分子泵（RP 放置在外部）實現緊湊的尺寸。它在桌子上的小空間里工作得很好。
金、鋁、鉻、銀等可以通過使用鎢籃進行氣相沉積。碳沉積使用使用特殊碳 ( SLC-30 ) 進行沉積的夾式沉積槍類型。
該機型專門用于電鏡樣品的預處理和金、鋁、鉻等薄膜的制備。

可靈活定制的固定式VE-2030

VE-2030 有多種附件（選項）。我們可以根據您的研究目的靈活應對定制。內置渦輪分子泵和旋轉泵。
我們提供廣泛的服務，包括鎢籃氣相沉積、鉬舟、K 電池加熱、EB 槍和碳棒氣相沉積。