低溫燒結性高透明性高純度氧化鋁粉

低溫燒結性高透明性高純度氧化鋁粉

低溫燒結性高透明性高純度氧化鋁粉

1. 超高純度：氧化鋁含量≥99.99%，部分型號如TM-DAR純度可達99.995%以上。這種超高純度確保了材料在高精度、高要求的應用場景中的穩定性，為電子領域提供了堅實的基礎。
2. 超微細粒徑：一次粒子徑可達0.10μm，部分型號如TM-5D粒徑為0.20μm。
3. 低溫燒結性：TM-D系列可在1250-1300℃實現致密化燒結，燒結密度可達理論密度的98%以上，大幅降低能耗并減少晶粒異常生長。
4. 優異的成型性能：通過表面修飾技術防止顆粒團聚，振實密度最高可達1.0g/cm3，注射成型時填充率提升15%以上。
5. 光學級透明性：通過HIP（熱等靜壓）燒結后，TM-DA/TM-DAR可制備透光率>85%@600nm的透明陶瓷。
6. 應用領域廣泛：大明化學的氧化鋁粉體廣泛應用于電子材料、光學材料、精密陶瓷、生物醫療等領域。
7. 超高純度：氧化鋁含量≥99.99%，部分型號如TM-DAR純度可達99.995%以上。這種超高純度確保了材料在高精度、高要求的應用場景中的穩定性，為電子領域提供了堅實的基礎。
8. 超微細粒徑：一次粒子徑可達0.10μm，部分型號如TM-5D粒徑為0.20μm

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9. 低溫燒結性：TM-D系列可在1250-1300℃實現致密化燒結，燒結密度可達理論密度的98%以上，大幅降低能耗并減少晶粒異常生長。
10. 優異的成型性能：通過表面修飾技術防止顆粒團聚，振實密度最高可達1.0g/cm3，注射成型時填充率提升15%以上。
11. 光學級透明性：通過HIP（熱等靜壓）燒結后，TM-DA/TM-DAR可制備透光率>85%@600nm的透明陶瓷。
12. 應用領域廣泛：大明化學的氧化鋁粉體廣泛應用于電子材料、光學材料、精密陶瓷、生物醫療等領域。